PCS Analytika

Víceprvkový skenovací EDXRF analyzátor pro procesní kontrolu povlaků / prvkovou analýzu s mapováním

Moderní EDXRF spektrometr 3. generace pro procesní kontrolu tloušťky povlaků nebo prvkovou analýzu pomocí skenování plochých materiálů nebo materiálů navinutých na cívkách.
U tohoto spektrometru je snímací systém namontovaný na motorizovaném rámu, který umožňuje posun měřicí hlavy tam a zpět v příčném směru nad podélně se pohybujícím pásem. Řízení měření se děje přes ovládací počítačovou jednotku s dotykovým displejem. Údaje jsou přenášeny v reálném čase jak v příčném tak v podélném směru povlakovaného pásu. Díky pokročilé technologii třetí generace rentgenových energiově disperzních fluorescenčních spektrometrů představuje Rigaku NEX LS další kvalitativní skok v procesu skenování povlaků.

Typické aplikace Silikonové povlaky převodníky silikonové, plastové nebo papírové Vakuově tvarované plasty silikonové povlaky Speciální plasty RoHS Konverzní povlaky Pokovené plasty Krycí povlaky na kovových cívkách Retardéry hoření ve tkaninách

Energiově disperzní rentgenová fluorescence (EDXRF)

U EDXRF spektrometru NEX LS je snímač (posuvná měřicí hlava) namontovaný na motorizovaném rámu. Pro dosažení výborné analytické výkonnosti a spolehlivosti je měřicí hlavová sestava odvozena od ověřené řady stolních analyzátorů Rigaku NEX s vysokým rozlišením. Díky této osvědčené technologii poskytuje Rigaku NEX LS rychlou, nedestruktivní, víceprvkovou analýzu povlaků a měření tloušťky povlaků – pro prvky od hliníku ₁₃Al až po uran ₉₂U.

Tloušťka povlaku a složení s mapováním

Rigaku NEX LS je speciálně navržen pro analýzy plochých materiálů nebo materiálů navinutých na cívkách, se schopností provádět víceprvkové složení, stanovení plošné hustoty nebo tloušťky povlaku. Měřicí hlava je namontována na tuhý nosník, který je vybavený lineárním pojezdovým mechanismem umístěným nad měřeným materiálem tak, aby vzdálenost od hlavy k povrchu byla konstantní. V případě potřeby je možné přímé měření prvkového složení povlaku. Plošná hustota nebo tloušťka povrchové vrstvy může být měřena jak přímo (kdy je intenzita měřených prvků přímo úměrná tloušťce povlaku) nebo nepřímo, kdy se měří útlumu vybraného prvku ze substrátu (intenzita prvku substrátu je pak v negativní korelaci s tloušťkou povlaku).

Silokonové povlaky

Stolní EDXRF spektrometry jsou již dlouhou dobu používané technologie pro analýzy povlaků, konvertorů a vakuově tvářených plastů, kde se jako oddělovací vrstva používá silikonový olej nebo silikonový povlak. Real-time skenování pro dodržování přesnějšího výrobního řízení umožňuje posunout analýzu technologií EDXRF na vyšší úroveň. Silikonové povlaky se aplikují na plastové nebo papírové substráty pro modifikaci jejich charakteristik. Je-li aplikováno příliš málo silikonu nebo jsou-li na materiálu oblasti, kde silikonový povlak chybí, budou nepříznivě ovlivněny charakteristiky materiálů nebo může u produkce vakuově tvarovaných plastů dojít dokonce k přerušení výroby nebo dalších navazujících procesů. Použije-li se naopak příliš mnoho silikonu, zvyšují se náklady na výrobu, což snižuje ziskovost.

Měření tloušťky povlaku a složení ve fixní pozici

Rigaku NEX LS lze použít pro analýzy složení a tloušťky povlaku plochých materiálů nebo materiálů navinutých na cívkách s měřicí hlavou ve fixní poloze. Vzdálenost měřicí hlavy od povrchu je podobně jako při mapování konstantní.